一种双真空泵体抛光液回收装置及方法
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摘要

本发明适用于及光学元件加工领域技术领域,提供了一种双真空泵体抛光液回收装置,包括真空腔体、第一真空泵体、第二真空泵体及抛光液存储装置;所述真空腔体包括输入接口、第一真空接口、第二真空接口;抛光液通过所述输入接口进入所述真空腔体,所述第一真空泵体通过所述第一真空接口与所述真空腔体连通,所述第二真空泵体通过所述第二真空接口与所述真空腔体连通,所述抛光液存储装置与所述第一真空泵体相连通。该装置可以实现抛光液无残留的高效回收,提高抛光液的稳定工作状态。

基本信息
专利标题 :
一种双真空泵体抛光液回收装置及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113231964A
申请号 :
CN202110563181.9
公开(公告)日 :
2021-08-10
申请日 :
2021-05-21
授权号 :
CN113231964B
授权日 :
2022-05-20
发明人 :
侯晶刘世伟许乔陈贤华张清华蒙晨郑楠李海波王健刘民才
申请人 :
中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请人地址 :
四川省成都市武侯区科园1路3号
代理机构 :
北京劲创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
李康
优先权 :
CN202110563181.9
主分类号 :
B24B57/02
IPC分类号 :
B24B57/02  B24B57/00  B24B1/00  B24B29/02  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B57/00
磨削抛光或研磨剂的进料,加料,分选或回收设备
B24B57/02
流体的,喷射的,雾化的或液化的磨削剂,抛光剂,或研磨剂的送进
法律状态
2022-05-20 :
授权
2021-08-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B24B 57/02
申请日 : 20210521
2021-08-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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