一种高消光比宽带线偏振片
授权
摘要
本发明公开了一种高消光比宽带线偏振片，采用双抛的石英玻璃做衬底，衬底上设有纳米结构，纳米结构由若干阵列式排布的纳米结构单元构成，纳米结构单元为长方形金属‑非金属‑金属三明治纳米棒，横向和纵向相邻纳米结构单元的距离分别相同，且所有纳米结构单元的尺寸均相同，每个纳米结构单元中两个金属层的厚度及材料相同。本发明线偏振片在可见光范围内的最大消光比大于10000，消光比大于500的波段为460纳米‑660纳米。本发明线偏振片提高TM光下的透射率，同时降低TE光下的透射率，以此产生高消光比，且TM光下的最小透射率大于50％。
基本信息
专利标题 ：
一种高消光比宽带线偏振片
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113534306A
申请号 ：
CN202110792954.0
公开（公告）日 ：
2021-10-22
申请日 ：
2021-07-14
授权号 ：
CN113534306B
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
郝翔何欣刘旭
申请人 ：
浙江大学
申请人地址 ：
浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
代理机构 ：
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 ：
刘静
优先权 ：
CN202110792954.0
主分类号 ：
G02B5/00
IPC分类号 ：
G02B5/00 G02B5/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
法律状态
2022-04-19 ：
授权
2021-11-09 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/00
申请日 : 20210714
申请日 : 20210714
2021-10-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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