一种减成法制备低翘曲极薄电解铜箔的方法
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摘要

本发明涉及一种减成法制备低翘曲极薄电解铜箔的方法,包括如下步骤:电解生箔、减成处理、水洗处理,所述减成处理包括:通直流电,铜箔光面表面的部分铜箔得到电子变成铜离子进入电解液中,电解液的铜离子得到电子变成铜沉积在第一阴极板、第二阴极板上。通过减成处理使得铜箔光面表面的铜箔被微蚀一定厚度,从而使得因铜与阴极辊存在晶格差异造成应力的铜箔表面被微蚀掉,能够有效减小所得电解铜箔的翘曲;而且电解生箔处理的电解液在减成处理中可以得到重复利用,减成槽内的第一阴极板、第二阴极板上沉积的铜可被回收利用,有利于降低生产成本,有效解决现有制备工艺复杂、生产成本高、翘曲减小效果差的技术问题。

基本信息
专利标题 :
一种减成法制备低翘曲极薄电解铜箔的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113481550A
申请号 :
CN202110878644.0
公开(公告)日 :
2021-10-08
申请日 :
2021-08-02
授权号 :
CN113481550B
授权日 :
2022-04-29
发明人 :
李永贞周启伦李梓铭马秀玲解祥生汪坚张有勇
申请人 :
青海电子材料产业发展有限公司;青海诺德新材料有限公司;青海志青电解铜箔工程技术研究有限公司
申请人地址 :
青海省西宁市城东区八一东路7号
代理机构 :
北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
汤牡丹
优先权 :
CN202110878644.0
主分类号 :
C25D1/04
IPC分类号 :
C25D1/04  C25D7/06  C25D21/06  C25D21/18  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D1/00
电铸
C25D1/04
丝;带;箔
法律状态
2022-04-29 :
授权
2021-10-26 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C25D 1/04
申请日 : 20210802
2021-10-08 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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