空间合成孔径系统
授权
摘要
本发明提出了一种空间合成孔径系统,包括:控制装置、设置于待合成主镜焦平面处的分光装置、耦合组件、模分复用装置、色散装置、信号接收装置;待合成主镜的子镜位于控制装置上,子镜反射的光束进入分光装置,分光装置将接收的光束进行分光,分光后的每一路光束经耦合组件耦合,耦合后的光束进入模分复用装置后,光束进入色散装置,色散装置将接收到的光束的光谱细分后传送至信号接收装置。本发明所提供的空间合成孔径系统能够合成任意孔径的光学子镜,并且能够任意调节合成的大孔径主镜的曲率,不仅节约了大孔径合成主镜的制造成本,还能够灵活提高合成主镜的利用率。
基本信息
专利标题 :
空间合成孔径系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113721344A
申请号 :
CN202111016909.2
公开(公告)日 :
2021-11-30
申请日 :
2021-08-31
授权号 :
CN113721344B
授权日 :
2022-06-14
发明人 :
安其昌刘欣悦李洪文张景旭王建立陈涛王越
申请人 :
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请人地址 :
吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号
代理机构 :
长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
高一明
优先权 :
CN202111016909.2
主分类号 :
G02B7/183
IPC分类号 :
G02B7/183 G02B7/185 G02B7/198
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B7/00
光学元件的安装、调整装置或不漏光连接
G02B7/18
用于棱镜;用于反光镜
G02B7/182
用于反光镜
G02B7/183
特别适用于大型反射镜,如用于天文的
法律状态
2022-06-14 :
授权
2021-12-17 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 7/183
申请日 : 20210831
申请日 : 20210831
2021-11-30 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN113721344A.PDF
PDF下载