保持机构
公开
摘要
本发明提供保持机构，其即使未充分精密地进行环状框架的定位也能够可靠地对环状框架进行保持。保持机构包含：晶片保持部，其对晶片进行吸引保持；以及框架支承部，其配设于晶片保持部的外周，对框架进行支承。框架支承部包含永久磁铁。
基本信息
专利标题 ：
保持机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114284200A
申请号 ：
CN202111121460.6
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2021-09-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
斋藤良信柿沼良典森俊
申请人 ：
株式会社迪思科
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
杨俊波
优先权 ：
CN202111121460.6
主分类号 ：
H01L21/687
IPC分类号 ：
H01L21/687 H01L21/683
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
H01L21/687
使用机械装置的，例如卡盘、夹具或夹子
法律状态
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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