黑色感光性树脂组合物、图案化的固化物的制造方法、图案化的...
公开
摘要
本发明提供一种即使在烘烤温度较低的情况下也能够形成具有较高溶剂抗性且具有直进性优异的图案形状的遮光性的固化物的黑色感光性树脂组合物、使用该黑色感光性树脂组合物的图案化的固化物的制造方法、由上述黑色感光性树脂组合物的固化物构成的图案化的固化物与黑色矩阵。所述黑色感光性树脂组合物包含碱可溶性树脂(A)、光聚合性单体(B)、光聚合引发剂(C)、遮光剂(D)与多官能硫醇化合物(E)，遮光剂(D)由特定的有机黑色颜料(D1)及(D1)以外的颜料(D2)构成，总固体成分中的遮光剂(D)的含量为25质量％以上50质量％以下，有机黑色颜料(D1)相对于颜料(D1)及(D2)的合计的比例为40质量％以上80质量％以下。
基本信息
专利标题 ：
黑色感光性树脂组合物、图案化的固化物的制造方法、图案化的固化物以及黑色矩阵
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114384757A
申请号 ：
CN202111142385.1
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2021-09-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
佐藤梓实坂田诚
申请人 ：
东京应化工业株式会社
申请人地址 ：
日本国神奈川县
代理机构 ：
上海立群专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
陈亦欧
优先权 ：
CN202111142385.1
主分类号 ：
G03F7/027
IPC分类号 ：
G03F7/027 G03F7/004 G02F1/1335
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/027
具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物，例如，乙烯化合物
法律状态
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
