一种偏钒酸盐荧光纳米薄膜
公开
摘要
本发明涉及一种偏钒酸盐纳米荧光薄膜，是指采用磁控溅射、脉冲激光沉积等物理沉积的方法制备的具有AVO3(A＝K,Rb,Cs)化学通式的纳米薄膜厚度10～300nm。所述薄膜具有明显的白光荧光特性，可在近紫外光照射激发下，产生400‑800nm可见光波段的全光谱发光，发光颜色十分接近白色。本发明所述薄膜为白光荧光膜，量子效率高，发光带宽，白光组分稳定，适用于白光二极管等发光元器件。
基本信息
专利标题 ：
一种偏钒酸盐荧光纳米薄膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114622173A
申请号 ：
CN202111188697.6
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2021-10-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
陆建斌曹逊陆建勋
申请人 ：
金华市华翰智能科技合伙企业（有限合伙）
申请人地址 ：
浙江省金华市婺城区临江东路1100号五楼
代理机构 ：
杭州云睿专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张骁敏
优先权 ：
CN202111188697.6
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/08 C09K11/02 C09K11/64 C09K11/69 H01L33/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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