谐振器
公开
摘要

一种用于形成经修改的谐振器(22)的方法,该方法包括:a.在衬底(1)之上获得谐振器(2),该谐振器(2)包括铌或钽,由此形成该谐振器(2)的底面与该衬底(1)的顶面之间的界面区域(21),以及b.用液体酸性蚀刻溶液来将该谐振器(2)与该衬底(1)相接触,选择该液体酸性蚀刻溶液以使得具有比对谐振器(2)的蚀刻速率更高的对衬底(1)的蚀刻速率以及对谐振器(2)的非零蚀刻速率。

基本信息
专利标题 :
谐振器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114362713A
申请号 :
CN202111193906.6
公开(公告)日 :
2022-04-15
申请日 :
2021-10-13
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
A·帕科M·蒙吉洛A·波托奇尼克D·万J·韦尔乔
申请人 :
IMEC非营利协会;鲁汶天主教大学
申请人地址 :
比利时勒芬
代理机构 :
上海专利商标事务所有限公司
代理人 :
钱盛赟
优先权 :
CN202111193906.6
主分类号 :
H03H9/05
IPC分类号 :
H03H9/05  H03H9/13  H03H3/02  
法律状态
2022-04-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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