谐振器
公开
摘要
一种用于形成经修改的谐振器(22)的方法，该方法包括：a.在衬底(1)之上获得谐振器(2)，该谐振器(2)包括铌或钽，由此形成该谐振器(2)的底面与该衬底(1)的顶面之间的界面区域(21)，以及b.用液体酸性蚀刻溶液来将该谐振器(2)与该衬底(1)相接触，选择该液体酸性蚀刻溶液以使得具有比对谐振器(2)的蚀刻速率更高的对衬底(1)的蚀刻速率以及对谐振器(2)的非零蚀刻速率。
基本信息
专利标题 ：
谐振器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114362713A
申请号 ：
CN202111193906.6
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2021-10-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
A·帕科M·蒙吉洛A·波托奇尼克D·万J·韦尔乔
申请人 ：
IMEC非营利协会;鲁汶天主教大学
申请人地址 ：
比利时勒芬
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
钱盛赟
优先权 ：
CN202111193906.6
主分类号 ：
H03H9/05
IPC分类号 ：
H03H9/05 H03H9/13 H03H3/02
法律状态
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
