绝缘结构、绝缘结构的制造方法、离子生成装置及离子注入装置
公开
摘要
本发明提供一种能够抑制由于污染物的附着而导致的绝缘性能的降低的绝缘结构。绝缘结构(74)具备：第1端部(82)；第2端部(84)；轴部(86)，连接第1端部(82)与第2端部(84)之间；及包围部(88)，具有与轴部(86)的外表面(94)对置的内表面(96)，并从第1端部(82)朝向第2端部(84)延伸。轴部(86)的外表面(94)与包围部(88)的内表面(96)之间的间隙(90)构成为与外部连通。第1端部(82)、第2端部(84)、轴部(86)及包围部(88)由电绝缘材料构成。
基本信息
专利标题 ：
绝缘结构、绝缘结构的制造方法、离子生成装置及离子注入装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114551195A
申请号 ：
CN202111317962.6
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2021-11-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
石田勇二
申请人 ：
住友重机械离子科技株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
任玉敏
优先权 ：
CN202111317962.6
主分类号 ：
H01J37/08
IPC分类号 ：
H01J37/08 H01J37/30 H01J37/317
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/02
零部件
H01J37/04
电极装置及与产生或控制放电的部件有关的装置，如电子光学装置，离子光学装置
H01J37/08
离子源；离子枪
法律状态
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
