紫外线处理装置以及紫外线处理方法
公开
摘要
本发明提供能够使灯与被处理物之间的空间适当地成为低氧浓度的空间，并能够在短时间内对被处理物进行紫外线照射处理的紫外线处理装置以及紫外线处理方法。紫外线处理装置(10)具备：准分子灯(20)；灯罩(30)，收容准分子灯(20)，具有取出从准分子灯(20)放射的紫外线的开口(30a)；载物台(40)，以与准分子灯(20)的长度方向正交的方向为输送方向，将被处理物(W)输送至与灯罩(30)的开口(30a)对置的位置且照射紫外线的照射位置；以及气体喷出机构(50)，沿着准分子灯(20)的长度方向向准分子灯(20)与照射位置的被处理物(W)之间的空间喷出惰性气体。
基本信息
专利标题 ：
紫外线处理装置以及紫外线处理方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114538794A
申请号 ：
CN202111331628.6
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2021-11-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
山森贤治川口真孝竹元史敏
申请人 ：
优志旺电机株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
徐殿军
优先权 ：
CN202111331628.6
主分类号 ：
C03C23/00
IPC分类号 ：
C03C23/00 B29C35/08
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C03
玻璃；矿棉或渣棉
C03C
玻璃、釉或搪瓷釉的化学成分；玻璃的表面处理；由玻璃、矿物或矿渣制成的纤维或细丝的表面处理；玻璃与玻璃或与其他材料的接合
C03C23/00
纤维或丝之外玻璃的其他表面处理
法律状态
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
