一种栅控雪崩快速闭合IGBT及其对称结构
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种栅控雪崩快速闭合IGBT,自下而上依次包括:集电极金属、衬底、第一外延层、第二外延层、第三外延层、发射极金属以及栅金属;其中,第三外延层内部设有第一掺杂区、第二掺杂区以及第三掺杂区;第一掺杂区起始于第三外延层的上表面并向下延伸至第三外延层的下表面;第二掺杂区起始于第三外延层的左上角并向下右下延伸至第三外延层内部,且与第一掺杂区具有一定间隔;第三掺杂区位于第二掺杂区内,且与第二掺杂区左右两侧具有一定间隔;发射极金属位于部分第二掺杂区和部分第三掺杂区上方;栅金属位于第二掺杂区和第一掺杂区之间的第三外延层上方。在脉冲功率系统中,本发明提供的雪崩闭合IGBT与传统IGBT相比可显著缩短脉冲前沿,提高脉冲源性能。

基本信息
专利标题 :
一种栅控雪崩快速闭合IGBT及其对称结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114361254A
申请号 :
CN202111348542.4
公开(公告)日 :
2022-04-15
申请日 :
2021-11-15
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
汤晓燕郭登耀宋庆文张玉明
申请人 :
西安电子科技大学
申请人地址 :
陕西省西安市雁塔区太白南路2号
代理机构 :
西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
王萌
优先权 :
CN202111348542.4
主分类号 :
H01L29/739
IPC分类号 :
H01L29/739  H01L29/06  
法律状态
2022-05-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 29/739
申请日 : 20211115
2022-04-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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