一种超低发射率功能涂层的制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开一种超低发射率功能涂层的制备方法，包括以下步骤：(1)预处理；(2)化学氧化；(3)清水洗；(4)后处理；(5)热水洗；(6)干燥。本发明设计的天线表面涂层的制备工艺及参数，通过对天线进行预处理、化学氧化和后处理，使得天线表面获得涂层，再对覆有涂层的天线进行表面发射率测试和耐盐雾试验，测试其表面发射率为0.06±0.02，耐盐雾试验时间为96h后天线表面无明显腐蚀，本发明方法可以同时实现高精度超低发射率和耐中性盐雾的设计需求，确保了海域环境下待发射卫星产品的地面防护问题和发射升空后的空间热控问题。
基本信息
专利标题 ：
一种超低发射率功能涂层的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114262885A
申请号 ：
CN202111375035.X
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2021-11-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
卢海燕盛磊乔兴旺张亚斌侯江涛
申请人 ：
中国电子科技集团公司第三十八研究所
申请人地址 ：
安徽省合肥市高新技术开发区香樟大道199号
代理机构 ：
合肥市浩智运专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
缪璐欢
优先权 ：
CN202111375035.X
主分类号 ：
C23C22/33
IPC分类号 ：
C23C22/33 C23C22/78 C23C22/82 C23F1/20 C23F1/36
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22/00
表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理，例如转化层、金属的钝化
C23C22/05
使用水溶液的
C23C22/06
使用pH＜6之酸性水溶液的
C23C22/24
含有六价络化合物的
C23C22/33
还含有磷酸盐
法律状态
2022-04-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 22/33
申请日 : 20211117
申请日 : 20211117
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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