一种超高峰值功率激光聚焦焦斑预测系统及其仿真方法
公开
摘要
本发明公开了一种超高峰值功率激光聚焦焦斑预测系统及其仿真方法，该系统包括聚焦光学系统光路排布结构、压缩光栅后诊断系统、离轴抛物面焦点后方测量系统；该方法包括根据焦斑预测系统参数模拟输入光束，设定弱光校正完毕后，焦斑处波前，设定圆形面表示弱光和强光打靶状态下的静态误差，并计算离轴抛物面后误差波前和强度的相对分布，最终计算远场焦斑能量分布和功率密度，实现了将离轴抛物系统引入的像差加入标定方法中，提高了焦斑分布预测的准确性。
基本信息
专利标题 ：
一种超高峰值功率激光聚焦焦斑预测系统及其仿真方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114295326A
申请号 ：
CN202111422782.4
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2021-11-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金王赞臧仲明左言磊戴亚平
申请人 ：
中山光子科学中心
申请人地址 ：
广东省中山市南区城南二路11号2幢3楼
代理机构 ：
中山市科创专利代理有限公司
代理人 ：
尹文涛
优先权 ：
CN202111422782.4
主分类号 ：
G01M11/02
IPC分类号 ：
G01M11/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试；其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M11/02
•光学性质测试
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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