一种微纳米光学印刷机及印刷方法
实质审查的生效
摘要
本发明属于印刷技术领域,公开了一种微纳米光学印刷机及印刷方法,包括上料组和光学印刷组,上料组和光学印刷组设置在图案印刷之后,上料组设置在光学印刷组之前,上料组的第一印版辊为光面辊,第一印版辊上方垂直设置有第一压印辊,第一印版辊下方具有上料池,第一印版辊的辊筒一部分浸入上料池,光学印刷组上的第二印版辊是透明的材质,第二印版辊表面包覆有微纳米光学版,第二印版辊的上方具有第二压印辊,第二印版辊的下方具有LED紫外线光源,所述LED紫外线光源为平行线光源。本发明通过通过设备改进,印刷出来的微纳米光学效果在平面图像之上,效果更为明显,且不会被平面图案所覆盖,具有印刷效率高,呈现效果好的优点。
基本信息
专利标题 :
一种微纳米光学印刷机及印刷方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114261198A
申请号 :
CN202111459913.6
公开(公告)日 :
2022-04-01
申请日 :
2021-12-02
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王翔胡爱军莫正戎崔凤
申请人 :
杭州新耀激光科技有限公司;浙江美浓世纪集团有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市余杭区东湖街道康达路508号2幢1楼
代理机构 :
杭州浙科专利事务所(普通合伙)
代理人 :
孙孟辉
优先权 :
CN202111459913.6
主分类号 :
B41F19/00
IPC分类号 :
B41F19/00 B41F9/00 B41F23/04 B41F23/08 B41M1/10 B41M3/00
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B41
印刷;排版机;打字机;模印机
B41F
印刷机械或印刷机
B41F19/00
和其他操作组合进行的印刷操作用的设备或机械
法律状态
2022-04-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B41F 19/00
申请日 : 20211202
申请日 : 20211202
2022-04-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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