纳米印刷模具、其制造方法及纳米印刷装置和方法
专利权的终止
摘要
在纳米印刷法中，提供一种离模性和转印精度优良的模具。通过控制离模材料和形成于模具表面的金属氧化膜的厚度，从而调整形成于其外层的离模材料层的粘接量，形成离模性优良的模具。本发明还涉及纳米印刷模具的制造方法和使用该模具的纳米印刷装置及纳米印刷方法。
基本信息
专利标题 ：
纳米印刷模具、其制造方法及纳米印刷装置和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1843768A
申请号 ：
CN200610008659.7
公开（公告）日 ：
2006-10-11
申请日 ：
2006-02-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
大桥健也宮内昭浩荻野雅彦
申请人 ：
株式会社日立产机系统
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
许海兰
优先权 ：
CN200610008659.7
主分类号 ：
B41N1/00
IPC分类号 ：
B41N1/00 B41N1/24 B41N3/03 B41M5/26 B41C1/00 H01L21/027
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B41
印刷；排版机；打字机；模印机
B41N
印版或箔；印刷机上印刷、着墨、润湿用的表面材料；上述所用表面的制备和保存
B41N1/00
印版或箔；及其所用材料
法律状态
2016-04-06 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101654736601
IPC(主分类) : B41N 1/00
专利号 : ZL2006100086597
申请日 : 20060220
授权公告日 : 20100127
终止日期 : 20150220
号牌文件序号 : 101654736601
IPC(主分类) : B41N 1/00
专利号 : ZL2006100086597
申请日 : 20060220
授权公告日 : 20100127
终止日期 : 20150220
2010-01-27 ：
授权
2006-12-06 ：
实质审查的生效
2006-10-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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