非平面图案化纳米结构表面及用于其制造的印刷方法
授权
摘要
本发明公开一种将图案施加到具有曲率半径的非平面表面的方法。具有主表面的印模具有延伸远离基部表面的图案元件的浮雕图案。每个图案元件具有横向尺寸为0至5微米的压印表面。施加在压印表面上的墨包括具有化学键合到非平面表面的官能团的官能化分子。定位印模以引起非平面表面与印模的主表面之间的滚动接触。使图案元件的压印表面与非平面表面接触，以在非平面表面上形成官能化材料的自组装单层，并且赋予图案元件的布置。当印模的主表面接触非平面表面时，相对于非平面表面控制压印表面的相对位置。
基本信息
专利标题 ：
非平面图案化纳米结构表面及用于其制造的印刷方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112313080A
申请号 ：
CN201980043223.7
公开（公告）日 ：
2021-02-02
申请日 ：
2019-06-21
授权号 ：
CN112313080B
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
詹姆斯·朱卡尔·K·斯腾斯瓦德丹尼尔·M·伦茨托马斯·J·梅茨勒莫塞斯·M·大卫詹妮弗·A·蒂姆特伦斯·A·佩哈切克
申请人 ：
3M创新有限公司
申请人地址 ：
美国明尼苏达州
代理机构 ：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
梁晓广
优先权 ：
CN201980043223.7
主分类号 ：
B41C1/18
IPC分类号 ：
B41C1/18 B41F17/00 B41K1/22 B41F3/26 B41K3/26 B41M1/00 B81C1/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B41
印刷；排版机；打字机；模印机
B41C
印刷版的制造或复制工艺
B41C1/00
印版准备
B41C1/18
曲面印刷印版或印刷滚筒
法律状态
2022-05-24 ：
授权
2021-02-23 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B41C 1/18
申请日 : 20190621
申请日 : 20190621
2021-02-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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