一种调节金属隧穿结中的间隙距离的方法
实质审查的生效
摘要
本发明公布了一种调节金属隧穿结中的间隙距离的方法，属于纳米或原子尺度器件领域。该方法利用激光照射的I‑V扫描方法，高精度控制金属隧穿结中的间隙距离。本发明可以在相当大的范围内进行调节隧穿间隙距离，可以有效控制隧穿结的电学性能。激光照射方法对隧穿结样品温和，调节过程没有损伤，属于无损方法。通过探针台、支架和光路、调焦等外围支持系统的配合，可以对制备在不同材料的衬底上的隧穿结样品进行调节，适用范围广泛。
基本信息
专利标题 ：
一种调节金属隧穿结中的间隙距离的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114335335A
申请号 ：
CN202111499525.0
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
田仲政于达程任中阳田姣姣任黎明傅云义
申请人 ：
北京大学
申请人地址 ：
北京市海淀区颐和园路5号
代理机构 ：
北京万象新悦知识产权代理有限公司
代理人 ：
贾晓玲
优先权 ：
CN202111499525.0
主分类号 ：
H01L45/00
IPC分类号 ：
H01L45/00
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 45/00
申请日 : 20211209
申请日 : 20211209
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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