一种提高基于金属隧穿结的存储器耐久性的方法
实质审查的生效
摘要

本发明公布了一种提高基于金属隧穿结的存储器耐久性的方法,属于纳米/原子器件领域。本发明利用电流‑焦耳热可以修复隧穿电极尖端损伤、提高强度、增加隧穿结耐久性的原理,在金属隧穿结存储器的正常擦写循环中,插入修复循环,通过控制修复循环的电压波形、限流、时长等因素,减弱电流主导迁移的作用,而增强电流‑焦耳热主导迁移的作用。在修复循环中,金属原子得以充分向隧穿电极尖端迁移,填补电场主导迁移过程中形成的空位,增强隧穿电极尖端的强度,使器件的耐久性提高。

基本信息
专利标题 :
一种提高基于金属隧穿结的存储器耐久性的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114283867A
申请号 :
CN202111600084.9
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2021-12-24
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
田仲政于达程任中阳田姣姣李慕禅于学敏彭沛王紫东任黎明傅云义
申请人 :
北京大学
申请人地址 :
北京市海淀区颐和园路5号
代理机构 :
北京万象新悦知识产权代理有限公司
代理人 :
贾晓玲
优先权 :
CN202111600084.9
主分类号 :
G11C16/26
IPC分类号 :
G11C16/26  H01L45/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11C
静态存储器
G11C16/00
可擦除可编程序只读存储器
G11C16/02
电可编程序的
G11C16/04
使用可变阀值晶体管的,例如,FAMOS
G11C16/26
读出或读电路;数据输出电路
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G11C 16/26
申请日 : 20211224
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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