一种高分子材料表面镀耐磨膜层工艺及其制得的耐磨镀膜
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种高分子材料表面镀耐磨膜层工艺，包括如下步骤：镀氮化硅打底层步骤：在待镀膜工件表面通过真空镀膜，镀氮化硅打底层，厚度为2nm‑20nm；镀氮化硅膜层步骤：在氮化硅打底层上镀氮化硅膜层，厚度为20nm‑300nm；镀DLC耐磨层步骤：在氮化硅膜层上镀DLC耐磨层，通过上述设置，用氮化硅作为打底层，膜层与高分子材料的界面结合力好；用氮化硅作为主体膜层，整体膜系设计简单，工艺操作稳定性高；用DLC膜层作为外观膜层，耐磨性能好。本发明还公开了采用该工艺制得的耐磨镀膜。
基本信息
专利标题 ：
一种高分子材料表面镀耐磨膜层工艺及其制得的耐磨镀膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114369794A
申请号 ：
CN202111499897.3
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2021-12-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
不公告发明人
申请人 ：
深圳市恒鼎新材料有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区福永街道福永社区福海B2区A2栋202
代理机构 ：
北京沁优知识产权代理有限公司
代理人 ：
陈坚
优先权 ：
CN202111499897.3
主分类号 ：
C23C14/06
IPC分类号 ：
C23C14/06 C23C14/04 C23C14/12 B05D1/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
法律状态
2022-05-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/06
申请日 : 20211209
申请日 : 20211209
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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