一种浇注可逆元器件制样研磨方法
实质审查的生效
摘要
本发明实施例提供了一种浇注可逆元器件制样研磨方法，其特征在于，包括步骤：步骤1：将在80℃熔化成液体的石蜡引流致放置有样品的模具中；步骤2：将冷却固化的石蜡连同其中的样品从模具中取下，开展研磨、抛光，对抛光后的制样进行镜检、拍照；步骤3：采用对样品无损的方式将石蜡熔化成液态，从液状石蜡中取出完成镜检、拍照流程的样品，并对样品进行清洗。
基本信息
专利标题 ：
一种浇注可逆元器件制样研磨方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114414322A
申请号 ：
CN202111504593.1
公开（公告）日 ：
2022-04-29
申请日 ：
2021-12-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张超姬青罗宇华汪波楼建设
申请人 ：
上海精密计量测试研究所
申请人地址 ：
上海市闵行区元江路3888号
代理机构 ：
上海航天局专利中心
代理人 ：
孙瑜
优先权 ：
CN202111504593.1
主分类号 ：
G01N1/28
IPC分类号 ：
G01N1/28 G01N1/36
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N1/00
取样；制备测试用的样品
G01N1/28
测试用样品的制备
法律状态
2022-05-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 1/28
申请日 : 20211210
申请日 : 20211210
2022-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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