基于微弧离子镀的陶瓷介质滤波器表面镀层方法、陶瓷介质滤波...
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种基于微弧离子镀的陶瓷介质滤波器表面镀层方法，通过对待处理陶瓷介质滤波器进行超声清洗后，置于微弧离子镀设备真空腔室中的工件架上再依次进行等离子体清洗、沉积金属导电层、二次等离子体清洗、沉积金属打底层、沉积过渡层、沉积Ag镀层步骤以及后处理等步骤，得到具有表面镀层的陶瓷介质滤波器。本发明还提供一种陶瓷介质滤波器。本发明的方法可制备较厚镀层、能精准调控镀层组分，使处理后的陶瓷滤波器表面银镀层界面结合良好、截面结构致密、电学性能优异，整体镀银工艺自动化程度高、稳定性可靠性好。
基本信息
专利标题 ：
基于微弧离子镀的陶瓷介质滤波器表面镀层方法、陶瓷介质滤波器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114481014A
申请号 ：
CN202111505091.0
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2021-12-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
杨波李洪涛刘灿灿徐彤张宁路永荣鲍星毅
申请人 ：
江阴微弧金属科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市江阴市中南路1号
代理机构 ：
南京行高知识产权代理有限公司
代理人 ：
王培松
优先权 ：
CN202111505091.0
主分类号 ：
C23C14/02
IPC分类号 ：
C23C14/02 C23C14/18 C23C14/32 C23C14/48 H01P1/20 H01P11/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/02
待镀材料的预处理
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/02
申请日 : 20211210
申请日 : 20211210
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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