一种晶圆内部微裂纹检测装置及检测方法
实质审查的生效
摘要

本发明属于晶圆缺陷检测领域,公开了一种晶圆内部微裂纹检测装置及检测方法,包括基座,基座中间具有固定座,固定座上安装有晶圆夹持机构,晶圆装夹在所述晶圆夹持机构上,基座左右两边固定安装有水平直线位移平台,水平直线位移平台上安装有立座,立座上具有竖直直线位移平台,测试单元安装在所述竖直直线位移平台上,测试单元用于对晶圆的两面的检测部位进行微裂纹检测。本发明的晶圆内部微裂纹检测装置检测范围从大到小层层检测,提高了检测效率和检测精度。本发明的设计的晶圆夹持机构利用可控磁性原理缓慢将晶圆夹住,避免了刚性压紧造成的晶圆破碎的问题。通过本装置对晶圆内部微裂纹进行检测,提升了芯片产品良品率,降低了不良品比例。

基本信息
专利标题 :
一种晶圆内部微裂纹检测装置及检测方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114420581A
申请号 :
CN202111505456.X
公开(公告)日 :
2022-04-29
申请日 :
2021-12-10
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
李柠
申请人 :
浙江大学杭州国际科创中心
申请人地址 :
浙江省杭州市萧山区经济技术开发区建设三路733号浙江大学杭州国际科创中心
代理机构 :
杭州浙科专利事务所(普通合伙)
代理人 :
孙孟辉
优先权 :
CN202111505456.X
主分类号 :
H01L21/66
IPC分类号 :
H01L21/66  H01L21/683  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/66
在制造或处理过程中的测试或测量
法律状态
2022-05-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/66
申请日 : 20211210
2022-04-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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