一种反离心间断式纳米材料湿法研磨装置
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种反离心间断式纳米材料湿法研磨装置,包括底板、升降板、支撑板、碾磨罐、反离心式间断借力冲散型精研机构、分散流式预先集中空化融合机构、振荡垂直摆动机构和大颗粒循环机构,所述升降板对称设于底板上壁两端,所述支撑板设于底板的一端上壁,所述碾磨罐设于升降板之间,所述反离心式间断借力冲散型精研机构设于底板上壁的中间位置。本发明属于研磨装置领域,具体是指一种反离心间断式纳米材料湿法研磨装置;本发明提供一种反离心运动、固液混合充分和研磨均匀的反离心间断式纳米材料湿法研磨装置。
基本信息
专利标题 :
一种反离心间断式纳米材料湿法研磨装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114345502A
申请号 :
CN202111514023.0
公开(公告)日 :
2022-04-15
申请日 :
2021-12-13
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
江沐风吴登钱吉云飞肖苏萍
申请人 :
上海天新纳米技术有限公司
申请人地址 :
上海市宝山区真陈路1000号1幢6楼F座791室
代理机构 :
北京盛凡佳华专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
马红蕾
优先权 :
CN202111514023.0
主分类号 :
B02C19/00
IPC分类号 :
B02C19/00 B02C19/18 B02C23/06 B02C23/36
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B02
破碎、磨粉或粉碎;谷物碾磨的预处理
B02C
一般破碎、研磨或粉碎;碾磨谷物
B02C19/00
其他粉碎装置或方法
法律状态
2022-05-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B02C 19/00
申请日 : 20211213
申请日 : 20211213
2022-04-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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