一种高强度一体成型微电感制备工艺
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种高强度一体成型微电感制备工艺，涉及微电子技术领域。本发明在制备高强度一体成型微电感时，首先进行线圈制作制得外部引脚凸出的空芯矩形线圈，再进行一次防护并使外部引脚凸出形成单层平面微电感，在进行组装制得半成品微电感，在有机硅胶制备过程中加入3,5‑二甲酸苯甲胺进行改性制得改性有机硅胶，二次防护将改性有机硅胶在外部引脚两端形成多孔防护柱，制得高强度一体成型微电感。本发明制备的氮化铝具有良好的受力防护性能和防氧化腐蚀性能，且易于安装使用。
基本信息
专利标题 ：
一种高强度一体成型微电感制备工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114334429A
申请号 ：
CN202111531844.5
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
高彦华周晟
申请人 ：
华萃微感电子（江苏）有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市玉山镇元丰路232号13号房
代理机构 ：
北京华际知识产权代理有限公司
代理人 ：
钟延珍
优先权 ：
CN202111531844.5
主分类号 ：
H01F41/04
IPC分类号 ：
H01F41/04 H01F41/00
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01F
磁体；电感；变压器；磁性材料的选择
H01F41/00
专用于制造或装配磁体、电感器或变压器的设备或方法；专用于制造磁性材料的设备或方法
H01F41/02
用于制造磁芯、线圈或磁体的
H01F41/04
用于制造线圈的
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01F 41/04
申请日 : 20211214
申请日 : 20211214
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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