由氯硅烷合成二硅烷工艺
公开
摘要
本发明涉及化工合成技术领域，具体公开了由氯硅烷合成二硅烷工艺，具体工艺步骤如下：步骤一、设备调试；步骤二、原材料准备,原材料包括氢化钠、THF溶剂、氯硅烷；步骤三、将适量的氢化钠装入烧瓶内，并打开氮气置换反应烧瓶内空气三次，再滴入3000mlTHF和1000g氯硅烷混合液，并保持25‑30℃；步骤四、将上述滴加反应后的浆料通过计量泵打入螺杆式微型反应器内；步骤五、将反应器出口同薄膜蒸发器相连，通过两级蒸发分别得到溶剂THF和固体产品二硅烷，副产氯化钠和高沸物及原料自带矿物油通过螺杆阀排出。本发明氯硅烷原料易得，价格便宜，降低了二硅烷的生产成本；将传统化学反应设备微型化、连续化，在保证产量的同时提高安全生产及节能减排降低碳排放。
基本信息
专利标题 ：
由氯硅烷合成二硅烷工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114409689A
申请号 ：
CN202111549688.5
公开（公告）日 ：
2022-04-29
申请日 ：
2021-12-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李杰张彩云刘巨文
申请人 ：
苏州矽索新材料有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市相城区黄桥街道胡湾村旺盛路（苏州市瑞润电子仪器面板厂内）
代理机构 ：
北京久维律师事务所
代理人 ：
邢江峰
优先权 ：
CN202111549688.5
主分类号 ：
C07F7/08
IPC分类号 ：
C07F7/08 C01B33/04 C01D3/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07F
含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环，碳环或杂环化合物
C07F7/00
含周期表第4或14族元素的化合物
C07F7/02
硅化合物
C07F7/08
具有1个或更多的C-Si键的化合物
法律状态
2022-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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