光学系统公差分析方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种光学系统公差分析方法，包括以下步骤：S1、计算光学系统的PSF椭率；S2、根据PSF椭率对公差灵敏度进行分析，并完成公差分配；S3、生成M个含公差的光学系统随机样本；S4、分别计算每个随机样本中N个特征视场的PSF椭率，获得M×N个PSF椭率的计算结果；S5、对M个样本通过统计方法计算N个视场的PSF椭率的变化量；S6、根据所述PSF椭率的变化量对成像稳定性公差进行评价。本发明构建的基于PSF椭率样本统计的公差分配评价方法，实现了基于PSF椭率的光学系统公差分析和分配，提高了光学系统公差分配精度和准确性。
基本信息
专利标题 ：
光学系统公差分析方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114326098A
申请号 ：
CN202111553622.3
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
吴洪波张新张建萍王灵杰史广维赵尚男付强
申请人 ：
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请人地址 ：
吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号
代理机构 ：
长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
郭婷
优先权 ：
CN202111553622.3
主分类号 ：
G02B27/00
IPC分类号 ：
G02B27/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 27/00
申请日 : 20211217
申请日 : 20211217
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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