一种达格列净杂质的制备方法
公开
摘要
本发明公开了一种达格列净杂质的制备方法，属于药物合成领域。本申请方法以达格列净为起始原料，通过乙酰化保护羟基、傅克酰基化反应、还原反应和脱保护得到所述达格列净杂质，该方法路线设计合理、原料易得，可操作性强、提纯方便，后处理简单，制备得到的目标产物纯度可达98％以上，为达格列净研究提供参照样品，具有重要研究价值。
基本信息
专利标题 ：
一种达格列净杂质的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114380779A
申请号 ：
CN202111571554.3
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2021-12-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李方林何冬梅董祥有
申请人 ：
艾希尔（深圳）药物研发有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙岗区龙城街道中心城清林西路深圳市留学人员（龙岗）创业园一园415室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202111571554.3
主分类号 ：
C07D309/10
IPC分类号 ：
C07D309/10
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D309/00
杂环化合物，含六元环，有1个氧原子作为仅有的杂环原子，不和其他环稠合
C07D309/02
环原子间或环原子与非环原子间无双键
C07D309/08
有杂原子，或有3个键连杂原子，其中最多有1个键连卤原子的碳原子，例如酯基或腈基，直接连在环碳原子上
C07D309/10
氧原子
法律状态
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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