投影校正方法、装置、存储介质以及投影设备
实质审查的生效
摘要
本公开涉及一种投影校正方法、装置、存储介质以及投影设备，涉及投影技术领域，该方法包括：向目标投影区域投射特征图像，并获取目标投影区域的拍摄图像，其中，特征图像包括分布在图像预设区域的刻度线；基于拍摄图像中的投影画面的刻度线，在拍摄图像中确定目标画面区域，其中，目标画面区域为在调制平面中的特征图像映射在拍摄图像上的区域；基于目标画面区域，对在调制平面上的投影图像进行校正。由此，该方法不仅能够显著提高投影校正的速度，而且既适用于单一平面的目标投影区域，也适用于复杂多平面的目标投影区域。同时经过校正后的图像能够符合用户的观看角度，从而为用户提供最佳的投影观看体验。
基本信息
专利标题 ：
投影校正方法、装置、存储介质以及投影设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114339179A
申请号 ：
CN202111590617.X
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
孙世攀张聪胡震宇
申请人 ：
深圳市火乐科技发展有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区科技园中区科苑路15号科兴科学园B栋4单元10层01号
代理机构 ：
北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张桂杰
优先权 ：
CN202111590617.X
主分类号 ：
H04N9/31
IPC分类号 ：
H04N9/31
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H04N 9/31
申请日 : 20211223
申请日 : 20211223
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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