一种凹面镜制造方法、凹面镜以及合分波器
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种凹面镜制造方法,属于光学元件领域,包括以下步骤:镀膜:在本体两侧分别镀制高反膜以及应力膜,所述应力膜的厚度大于所述高反膜的厚度;形变:应力膜的应力使本体弯曲,所述本体镀有应力膜一侧由于压应力形成凸面,所述本体镀有高反膜一侧由于形变形成凹面,本发明凹面镜制造方法通过镀制应力膜,使本体镀有应力膜一侧由于压应力形成凸面,本体镀有高反膜一侧由于形变形成凹面,不需要模压或者研磨抛光,制造成本低,并且分割后能够形成若干小型凹面镜,利于凹面镜的小型化,使凹面镜应用范围更广。本发明还涉及根据上述凹面镜制造方法制造的凹面镜以及包含上述凹面镜的合分波器。

基本信息
专利标题 :
一种凹面镜制造方法、凹面镜以及合分波器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114355492A
申请号 :
CN202111591230.6
公开(公告)日 :
2022-04-15
申请日 :
2021-12-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
刘权
申请人 :
苏州伽蓝致远电子科技股份有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市高新区泰山路2号34幢
代理机构 :
北京远大卓悦知识产权代理有限公司
代理人 :
韩玲
优先权 :
CN202111591230.6
主分类号 :
G02B5/10
IPC分类号 :
G02B5/10  G02B5/08  G02B27/09  G02B27/10  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/08
反射镜
G02B5/10
具有曲面的
法律状态
2022-05-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/10
申请日 : 20211223
2022-04-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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