使用两个抛物线凹面镜的气室以及使用该气室制造气体传感器的...
专利权的终止
摘要

本发明涉及一种光腔以及一种使用所述光腔制造的气室。光腔是气室最重要的元件,利用气体的光吸收特性测量气体密度。气室包括两个二次抛物线凹面镜,二者共用一个焦点和一根光轴。朝焦点入射的光由两个二次抛物线凹面镜反射从而光可以平行于光轴传播,并且平行于光轴入射的光可以在由两个二次抛物线凹面镜反射后经过焦点。光腔包括两个二次抛物线凹面镜,二者具有不同焦距,彼此相对排列,从而利用其反射特性使它们共焦。

基本信息
专利标题 :
使用两个抛物线凹面镜的气室以及使用该气室制造气体传感器的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101044392A
申请号 :
CN200580035672.5
公开(公告)日 :
2007-09-26
申请日 :
2005-10-11
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
李承焕朴正翼
申请人 :
ELT株式会社
申请人地址 :
韩国忠清南道
代理机构 :
北京润平知识产权代理有限公司
代理人 :
周建秋
优先权 :
CN200580035672.5
主分类号 :
G01N21/61
IPC分类号 :
G01N21/61  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/59
透射率
G01N21/61
非色散的气体分析器
法律状态
2014-12-03 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101590515439
IPC(主分类) : G01N 21/61
专利号 : ZL2005800356725
申请日 : 20051011
授权公告日 : 20100512
终止日期 : 20131011
2010-05-12 :
授权
2007-11-21 :
实质审查的生效
2007-09-26 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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