气体室
公开
摘要
本发明涉及一种用于对气体进行光谱式的、尤其是吸收光谱式的分析的气体室(1)，在该气体室中，所述气体暴露于电磁辐射的入射射束(S)中，并且该电磁辐射的从该气体出来的出射射束(SA)以形成测量信号，其中，该气体室(1)具有由对电磁辐射进行散射的多孔材料所构成的主体(10)、用于将入射射束(S)耦入到气体室(1)中的耦入装置(20)，和用于将出射射束(SA)从气体室(1)耦出的耦出装置(30)，其中，根据本发明地在主体(10)中扩展构造有无材料的腔(12)，该腔被在该材料内部延伸的内表面(14)包围，该内表面对所述电磁辐射不仅进行漫反射而且进行透射。
基本信息
专利标题 ：
气体室
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114467016A
申请号 ：
CN202080068133.6
公开（公告）日 ：
2022-05-10
申请日 ：
2020-09-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
P·W·伯格斯特龙M·塔兹瑞特R·康兹拉F·文图里尼M·赫特尔
申请人 ：
梅特勒-托莱多有限公司
申请人地址 ：
瑞士格赖芬塞
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
郭毅
优先权 ：
CN202080068133.6
主分类号 ：
G01N21/03
IPC分类号 ：
G01N21/03 G01N21/3504 G01N21/31
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/01
便于进行光学测试的装置或仪器
G01N21/03
透明小容器结构
法律状态
2022-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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