一种高均质的低钼含量钼铜合金生产工艺
实质审查的生效
摘要

一种高均质的低钼含量钼铜合金生产工艺,包括如下步骤:步骤一,钼粉还原:采用粒度为1.0~3.0μm的二氧化钼通过氢气还原得到粒度为1.0~2.0μm的超细钼粉;步骤二,装舟:将超细钼粉装入刚玉舟或者氧化锆舟或者氮化硼舟内,通过刮板将超细钼粉刮平;步骤三,预烧:将步骤二中的刚玉舟或者氧化锆舟或者氮化硼舟推入管式炉中,以松装状态氢气氛预烧,得到多孔钼骨架;步骤四,熔渗:将铜片放置到步骤三后的多孔钼骨架上,进行熔渗获得低钼含量钼铜合金。本方法采用低含量的钼在材料内部形成了烧结骨架,钼颗粒之间属于烧结结合,强度高于传统方法制备的低钼含量钼铜合金。

基本信息
专利标题 :
一种高均质的低钼含量钼铜合金生产工艺
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114411006A
申请号 :
CN202111601598.6
公开(公告)日 :
2022-04-29
申请日 :
2021-12-24
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
张志成朱桂明张意成
申请人 :
海特信科新材料科技有限公司;广东热导精密科技有限公司;浙江实利合新材料科技有限公司
申请人地址 :
浙江省绍兴市诸暨市陶朱街道展诚大道82号2号厂房3楼303
代理机构 :
北京专赢专利代理有限公司
代理人 :
李斌
优先权 :
CN202111601598.6
主分类号 :
C22C1/04
IPC分类号 :
C22C1/04  B22F3/10  B22F3/26  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C22
冶金;黑色或有色金属合金;合金或有色金属的处理
C22C
合金
C22C1/00
有色金属合金的制造
C22C1/04
用粉末冶金法
法律状态
2022-05-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C22C 1/04
申请日 : 20211224
2022-04-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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