一种模型理论光谱计算方法和装置
实质审查的生效
摘要

本发明提供了一种模型理论光谱计算方法和装置。本申请的模型理论光谱计算方法,包括:建立样品形貌模型,并建立XOZ平面坐标系;获取样品形貌模型在XOZ平面坐标系的平面轮廓;在平面轮廓上获取多个采样点,并根据多个采样点构成初始点集;根据初始点集得到Z坐标分层值集合;根据Z坐标分层值集合计算理论光谱。本申请的模型理论光谱计算方法通过获取样品形貌模型在XOZ平面坐标系的平面轮廓,并记录平面轮廓中的多个采样点,根据多个采样点构成初始点集,根据初始点集的Z坐标值进行分层,能够在线形发生改变的地方对样品形貌模型进行分层,之后根据分层值进行理论光谱的计算,在保证精度的同时减少片层的划分数量,能够提升理论光谱计算的速度。

基本信息
专利标题 :
一种模型理论光谱计算方法和装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114329948A
申请号 :
CN202111602467.X
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-24
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
张晓雷张厚道施耀明
申请人 :
上海精测半导体技术有限公司
申请人地址 :
上海市青浦区徐泾镇双浜路269、299号1幢1、3层
代理机构 :
上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
黄海霞
优先权 :
CN202111602467.X
主分类号 :
G06F30/20
IPC分类号 :
G06F30/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/20
设计优化、验证或模拟
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 30/20
申请日 : 20211224
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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