一种直接化学发光荧光光谱理论模型
实质审查的生效
摘要
本发明提供了一种直接化学发光荧光光谱理论模型，模型如下：由于激发液不同喷射速度、角度导致的多次检测误差CV变异性，本发明将其从原来的5％减小到1％。
基本信息
专利标题 ：
一种直接化学发光荧光光谱理论模型
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114544568A
申请号 ：
CN202210040893.7
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2022-01-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
蒋凯张涛汤亚伟高少佳
申请人 ：
苏州和迈精密仪器有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市高新区科技城锦峰路8号5号楼401室
代理机构 ：
苏州吴韵知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
金伟强
优先权 ：
CN202210040893.7
主分类号 ：
G01N21/64
IPC分类号 ：
G01N21/64 G01N21/76 G06F17/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发，因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/63
光学激发的
G01N21/64
荧光；磷光
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/64
申请日 : 20220114
申请日 : 20220114
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
