X射线荧光光谱仪
授权
摘要
本申请提供一种X射线荧光光谱仪，其包括：密封腔座，所述密封腔座的底部设有对接腔；密封圈，所述密封圈固定在所述对接腔内；样品杯座，所述样品杯座向上凸伸入所述对接腔内，所述密封圈径向密封所述样品杯座与所述对接腔，所述密封圈设有一圈径向向内抵触所述样品杯座的唇边。密封圈径向密封样品杯座与密封腔座可以不受样品杯座顶端面的平整度及清洁度的影响，能够更好地确保样品杯座及样品杯的密封性。另外，采取径向密封还可降低对样品杯座与密封腔座的同轴度要求，可降低对样品杯座的定位精度要求，相应的降低制造成本。
基本信息
专利标题 ：
X射线荧光光谱仪
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020684422.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-23
授权号 ：
CN212540197U
授权日 ：
2021-02-12
发明人 ：
滕飞刘小东李伯伦
申请人 ：
北京安科慧生科技有限公司
申请人地址 ：
北京市通州区环科中路2号院21号楼1层101
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020684422.6
主分类号 ：
G01N23/223
IPC分类号 ：
G01N23/223 G01N23/2204
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/22
通过测量材料的二次发射
G01N23/223
通过用X射线或γ射线辐照样品以及测量X射线荧光
法律状态
2021-02-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
