荧光X射线分析装置
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要
试样封入容器(8)具有由透射X射线的材质构成的多个壁面，X射线源(1)配置成对壁面(11)照射一次X射线，并且与被照射一次X射线的面不同的面(12)与X射线检测器(10)对置，而且，来自X射线源(1)的一次X射线能够照射与X射线检测器(10)对置的试样封入容器的壁面(12)。
基本信息
专利标题 ：
荧光X射线分析装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101052870A
申请号 ：
CN200580037929.0
公开（公告）日 ：
2007-10-10
申请日 ：
2005-10-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
的场吉毅深井隆行高桥正则一宫丰
申请人 ：
精工电子纳米科技有限公司
申请人地址 ：
日本千叶县
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
崔幼平
优先权 ：
CN200580037929.0
主分类号 ：
G01N23/223
IPC分类号 ：
G01N23/223
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/22
通过测量材料的二次发射
G01N23/223
通过用X射线或γ射线辐照样品以及测量X射线荧光
法律状态
2014-08-06 ：
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101703676623
IPC(主分类) : G01N 23/223
专利号 : ZL2005800379290
变更事项 : 专利权人
变更前 : 精工电子纳米科技有限公司
变更后 : 日本株式会社日立高新技术科学
变更事项 : 地址
变更前 : 日本千叶县
变更后 : 日本东京都
号牌文件序号 : 101703676623
IPC(主分类) : G01N 23/223
专利号 : ZL2005800379290
变更事项 : 专利权人
变更前 : 精工电子纳米科技有限公司
变更后 : 日本株式会社日立高新技术科学
变更事项 : 地址
变更前 : 日本千叶县
变更后 : 日本东京都
2012-04-18 ：
授权
2007-12-05 ：
实质审查的生效
2007-10-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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