荧光X射线分析装置

授权

摘要

本发明的荧光X射线分析装置所具有的计数时间计算机构(13)以改变使其测定强度变化的测定射线的方式，反复进行下述的流程，即，通过规定的定量运算方法，采用一个标准样品的参考强度，求出每个定量值，并且求出仅使一条测定射线的测定强度仅以规定量而变化的场合的每个定量值，将每个定量值变化与规定量的比作为定量值变化与强度比而求出，反复进行该流程，采用像这样而针对全部的测定射线求出的定量值变化与强度比，根据相对每个定量值而指定的定量精度，计算每条测定射线的计数时间。

基本信息

专利标题：

荧光X射线分析装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN113692533A

申请号：

CN201980094805.8

公开（公告）日：

2021-11-23

申请日：

2019-12-06

授权号：

CN113692533B

授权日：

2022-06-03

发明人：

片冈由行森山孝男

申请人：

株式会社理学

申请人地址：

日本东京都

代理机构：

北京三幸商标专利事务所(普通合伙)

代理人：

刘卓然

优先权：

CN201980094805.8

主分类号：

G01N23/223

IPC分类号：

G01N23/223 G01B15/02 G01N23/2209