荧光X射线分析装置和其所采用的程序

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摘要

一种荧光X射线分析装置等，其通过FP法对试样的组分、面积密度进行分析，针对各种试样，可按照简便、并且将几何效果充分符合现实而添加的方式计算理论强度，足够正确地进行定量分析。包括计算机构(10)，该计算机构(10)根据假定的组分，计算从试样(13)的各元素产生的二次X射线(6)的理论强度，按照该理论强度与通过上述检测机构(9)测定的测定强度换算为理论强度值的换算测定强度一致的方式，逐次近似地修正计算假定的组分，计算试样(13)的组分，上述计算机构(10)每当计算理论强度时，将试样(13)的大小与照射到试样表面(13a)的各位置的一次X射线(2)的强度和入射角φ作为参数，针对各光路模拟计算二次X射线(6)的理论强度。

基本信息

专利标题：

荧光X射线分析装置和其所采用的程序

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101151524A

申请号：

CN200580049351.0

公开（公告）日：

2008-03-26

申请日：

2005-12-08

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

河原直树原真也

申请人：

理学电机工业株式会社

申请人地址：

日本国大阪府

代理机构：

北京三幸商标专利事务所

代理人：

刘激扬

优先权：

CN200580049351.0

主分类号：

G01N23/223

IPC分类号：

G01N23/223