本发明公开了一种均相阴离子交换膜及其制备装置，具体涉及阴离子交换膜加工技术领域，包括底座，底座的外壁固定连接有用于固定零部件支撑的第一连接臂，第一连接臂的顶部固定连接有用于缓冲零部件整体晃动的第一缓冲套管。本发明接触圈的底部与膜体的表面进行贴合，在第一安装槽的内部设置了切刀圈，使用者转动接触圈整体时，接触圈整体产生滚动效果，带动贴合在底部的膜体进行位移，位移过程中，第一安装槽内部的切刀圈对膜体进行切割处理，在接触圈的内部设置了气囊平衡块，接触圈整体在旋转过程中，利用接触圈内部的气囊平衡块进行适配重量，使得接触圈整体保持水平状态，防止接触圈的底部与膜体过度接触，影响膜体裁剪。