一种光波导垂直端面位置定准方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及一种光波导垂直端面位置定准方法，包括以下步骤：S1：测量探测光的定位界面与直写光的实际加工位置之间的偏差，并定义该偏差为offset_z偏差;S2：测量探测光的定位位置与实际位置之间的偏差，并定义该偏差为aberration_z偏差；S3：探测光的实际焦点值为探测值与offset_z偏差值、aberration_z偏差值之和。
基本信息
专利标题 ：
一种光波导垂直端面位置定准方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114326324A
申请号 ：
CN202111614156.5
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
史强赵臻青宋炳生朱林伟
申请人 ：
烟台魔技纳米科技有限公司;华为技术有限公司
申请人地址 ：
山东省烟台市经济技术开发区荣昌路1号
代理机构 ：
济南舜源专利事务所有限公司
代理人 ：
李舜江
优先权 ：
CN202111614156.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20211227
申请日 : 20211227
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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