屏蔽材料组合物、屏蔽层、屏蔽复合膜及制备方法和应用
实质审查的生效
摘要
本发明提供了一种屏蔽材料组合物、屏蔽层、屏蔽复合膜及制备方法和应用,涉及射线屏蔽技术领域。该屏蔽材料组合物采用特定用量的屏蔽剂与溶剂、分散剂和粘结剂制成,其中,屏蔽剂通过选择特定种类的第一屏蔽剂和/或第二屏蔽剂,可使得该屏蔽材料组合物对于X射线、γ射线具有良好的屏蔽防护效果,为后续屏蔽层、屏蔽复合膜的制备提供了基础。本发明提供了一种屏蔽层,采用上述屏蔽材料组合物制成,鉴于上述屏蔽材料组合物所具有的优势,使得该屏蔽层对于X射线或γ射线具有良好的屏蔽效果。本发明还提供了屏蔽层的制备方法,工艺简单,操作方便,相对于传统金属箔片而言,制备工序较少,成本低,适合于工业化规模生产。
基本信息
专利标题 :
屏蔽材料组合物、屏蔽层、屏蔽复合膜及制备方法和应用
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114267470A
申请号 :
CN202111614933.6
公开(公告)日 :
2022-04-01
申请日 :
2021-12-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
朱玉斌高伦李邦怿郭春艳鄢照龙潘祥生朱治伟刘全九
申请人 :
上海六晶科技股份有限公司;深圳六晶医疗科技有限公司
申请人地址 :
上海市嘉定区城北路1355号
代理机构 :
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
张金铭
优先权 :
CN202111614933.6
主分类号 :
G21F1/08
IPC分类号 :
G21F1/08 G21F1/12 G21F1/02 H01J35/16 B05D7/24 B05D5/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理;核工程
G21F
G21FX射线,γ射线、微粒射线或粒子轰击的防护;处理放射性污染材料;及其去污染装置
G21F1/00
以材料组分为特征的防护物
G21F1/02
均匀的防护材料的选择
G21F1/08
金属;合金;金属陶瓷,即陶瓷和金属烧结的混合物
法律状态
2022-04-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G21F 1/08
申请日 : 20211223
申请日 : 20211223
2022-04-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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