对焦方法、装置、存储介质以及投影设备
实质审查的生效
摘要

本公开涉及一种对焦方法、装置、存储介质以及投影设备,涉及投影对焦技术领域,该方法包括:确定校正图像的目标点在投影设备的调制平面中的二维坐标;当目标点与原始图像的对焦点不一致时,根据目标点的二维坐标,结合预先单应矩阵关系,确定目标点映射在投影画面中的映射点的二维坐标;根据映射点的二维坐标,获得映射点相对于投影设备的三维坐标;根据映射点的三维坐标,确定投影设备投射校正图像的焦距。由此,可以优化投射对原始图像进行梯形校正、缩放或位移等处理后的校正图像时的对焦效果,使得投射的校正图像的画面更加清晰。而且,本公开实施例提供的对焦方法相较于通过摄像头进行对焦的方法,对焦速度更快。

基本信息
专利标题 :
对焦方法、装置、存储介质以及投影设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114286068A
申请号 :
CN202111627423.2
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2021-12-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
孙世攀张聪胡震宇
申请人 :
深圳市火乐科技发展有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市南山区科技园中区科苑路15号科兴科学园B栋4单元10层01号
代理机构 :
北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张桂杰
优先权 :
CN202111627423.2
主分类号 :
H04N9/31
IPC分类号 :
H04N9/31  
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H04N 9/31
申请日 : 20211228
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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