生成关键图像的方法和设备
实质审查的生效
摘要

在此公开了用于生成针对芯片版图的用于验证的关键图像的方法和设备。该方法包括:基于设计规则,生成用于目标图形的配置文件,目标图形由多个元件表示,并且配置文件包括限定多个元件中的不同元件之间的距离和各个元件的属性的参数;基于多个元件各自在所述目标图形中的位置,生成表示多个元件在目标图形中的布置的阵列图;以及基于阵列图和配置文件,生成目标图形的关键图像。根据本公开的实施例,可以根据需要拓宽图像覆盖度,并且能够生成更为接近真实设计的图像使得训练的数据集更为丰富和多样。

基本信息
专利标题 :
生成关键图像的方法和设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114297738A
申请号 :
CN202111629536.6
公开(公告)日 :
2022-04-08
申请日 :
2021-12-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
不公告发明人
申请人 :
全芯智造技术有限公司
申请人地址 :
安徽省合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期J2C栋13楼
代理机构 :
北京市金杜律师事务所
代理人 :
张宁
优先权 :
CN202111629536.6
主分类号 :
G06F30/10
IPC分类号 :
G06F30/10  G06F113/18  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/10
几何设计
法律状态
2022-05-06 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 30/10
申请日 : 20211228
2022-04-08 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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