阴影渲染方法、装置、电子设备及存储介质
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种阴影渲染方法、装置、电子设备及存储介质，涉及图像渲染技术领域，用于提高阴影渲染精度。该方法包括：根据目标光源在地心坐标系中的地心坐标值，以及第一转换矩阵，确定目标光源在局部坐标系中的局部坐标值；第一转换矩阵用于将地心坐标系转换为局部坐标系；根据目标光源的局部坐标值、第一对象的正交投影矩阵以及视图矩阵，在局部坐标系中渲染第一对象的阴影。
基本信息
专利标题 ：
阴影渲染方法、装置、电子设备及存储介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114332338A
申请号 ：
CN202111633490.5
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李怀泽周明瑞温宇浩石清华
申请人 ：
北京世纪高通科技有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区永丰路北清路交叉路口四维图新大厦A座2层
代理机构 ：
北京中博世达专利商标代理有限公司
代理人 ：
申健
优先权 ：
CN202111633490.5
主分类号 ：
G06T15/60
IPC分类号 ：
G06T15/60 G06T15/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T15/00
3D图像的加工
G06T15/50
发光效果
G06T15/60
阴影的生成
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06T 15/60
申请日 : 20211228
申请日 : 20211228
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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