含芳基的甘脲类低聚物与应用
实质审查的生效
摘要
本发明适用于光刻胶技术领域，提供了一种含芳基的甘脲类低聚物与应用，该含芳基的甘脲类低聚物的结构式为：其中，R1由苯环数在20以内的芳基与碳原子数在20以内的烷基、烷氧基或两个甘脲分子偶联得到，R2、R3为苯环数在20以内的芳基或碳原子数在20以内的烷基。本发明所述的含芳基的甘脲类低聚物作为光刻胶的交联剂，通过改变含芳基的甘脲类低聚物中芳基比例，可以方便的调整n/k值，大大降低BARC产品在n/k值方面的调整难度，能极大提高光刻工艺的吸光性能，具有较大的应用前景。
基本信息
专利标题 ：
含芳基的甘脲类低聚物与应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114315841A
申请号 ：
CN202111634300.1
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
顾大公夏力马潇陈鹏许从应毛智彪
申请人 ：
宁波南大光电材料有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市北仑区柴桥街道青山路21号
代理机构 ：
深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
左光明
优先权 ：
CN202111634300.1
主分类号 ：
C07D487/04
IPC分类号 ：
C07D487/04 C09D5/00 G03F7/004
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D487/00
在稠环系中含有氮原子作为仅有的杂环原子的杂环化合物，不包含在C07D451/00至C07D477/00组中
C07D487/02
在稠合系中含有两个杂环
C07D487/04
邻位稠合系
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C07D 487/04
申请日 : 20211229
申请日 : 20211229
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
