低共熔溶剂修饰的碱性氨基共轭微孔聚合物及其制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供了一种低共熔溶剂修饰的碱性氨基共轭微孔聚合物及其制备方法，该制备方法主要涉及四(三苯基膦)钯和碘化铜催化的Sonogashira‑Hagihara交叉偶联化学，合成了含有碱性氨基官能团的共轭微孔聚合物（NH2‑CMP）；再通过低共熔溶剂修饰，合成了低共熔溶剂修饰的碱性氨基共轭微孔聚合物（DESs‑NH2‑CMP）。其制备方法工艺简单、原料易得、易于实施，制备的DESs‑NH2‑CMP，疏水性得到改善。并且通过DESs的修饰，对NH2‑CMP进行了多元素掺杂。所得到的低共熔溶剂修饰的碱性氨基共轭微孔聚合物具有很高的吸附、电化学等方面的应用价值。
基本信息
专利标题 ：
低共熔溶剂修饰的碱性氨基共轭微孔聚合物及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114369230A
申请号 ：
CN202111646092.7
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2021-12-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
朱涛
申请人 ：
河北大学
申请人地址 ：
河北省保定市五四东路180号
代理机构 ：
石家庄国域专利商标事务所有限公司
代理人 ：
张莉静
优先权 ：
CN202111646092.7
主分类号 ：
C08G61/02
IPC分类号 ：
C08G61/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08G
用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
C08G61/00
由在高分子主链中形成碳-碳键合的反应得到的高分子化合物
C08G61/02
在高分子主链中只含有碳原子的高分子化合物，如聚苯二亚甲基
法律状态
2022-05-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08G 61/02
申请日 : 20211229
申请日 : 20211229
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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