本发明涉及薄膜封装技术领域，公开了一种高分子阻隔膜及其制备方法。所述高分子阻隔膜由下至上依次包括高分子基膜、第一阻隔层、第二阻隔层；所述第一阻隔层面沉积于所述高分子基膜上表面，所述第二阻隔层面沉积于所述第一阻隔层上表面；且对于所述第一阻隔层与所述第二阻隔层，一层包括含氟光敏树脂；另一层包括光敏树脂、硅烷偶联剂，及均匀分散于所述光敏树脂、硅烷偶联剂内的含硅纳米粒子。所述阻隔膜不但有利于阻隔膜成本降低，还实现了长期有效的水氧阻隔作用。所述制备方法采用连续溶液加工工艺进行所述高分子阻隔膜的制备，具有制备流程简单、制备成本低廉的优点。