水基型清洗剂及半导体的制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及半导体制备的技术领域，特别涉及水基型清洗剂及半导体的制备方法。所述水基型清洗剂的组分包括有机碱、醇胺、螯合剂、磷酸肌醇类化合物和水。可用于传统半导体制备的后端工艺(例如在集成电路后端工艺中对金属互连结构的清洗)，对金属及金属半导体具有非常低的腐蚀速率，同时能有效去除大多数有机物和金属离子，成本低，所需工艺温度低，环保。
基本信息
专利标题 ：
水基型清洗剂及半导体的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114317130A
申请号 ：
CN202111660933.X
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
周康帝黎立桂
申请人 ：
广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院
申请人地址 ：
广东省广州市黄埔区连云路388号
代理机构 ：
华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
黎金娣
优先权 ：
CN202111660933.X
主分类号 ：
C11D1/62
IPC分类号 ：
C11D1/62 C11D3/60 C11D3/20 C11D3/30 C11D3/33 C11D3/36 C11D11/00 H01L21/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C11
动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛
C11D
洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收
C11D1/00
主要以表面活性化合物为基料的洗涤组合物；使用这些化合物作为洗涤剂
C11D1/38
阳离子型化合物
C11D1/62
季铵化合物
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C11D 1/62
申请日 : 20211230
申请日 : 20211230
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
