紫外灯预处理方法、预处理装置以及紫外灯固化工艺系统
公开
摘要
本申请公开一种紫外灯预处理方法、处理装置以及紫外灯固化工艺系统，设定紫外灯光强的预设波动范围，并检测所述紫外灯的光强，当所述紫外灯的光强的波动范围处于所述预设波动范围内，则警示紫外灯预处理完毕。本申请在进行紫外线固化工艺之前，预先对紫外灯进行预处理，使其波动范围稳定后再进行紫外线固化工艺，从而提高工艺性能的稳定性，减少对致孔剂去除、氧化物网格交联作用的不利影响。
基本信息
专利标题 ：
紫外灯预处理方法、预处理装置以及紫外灯固化工艺系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114300341A
申请号 ：
CN202111662037.7
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2021-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
汤雨竹藤天娇
申请人 ：
拓荆科技股份有限公司
申请人地址 ：
辽宁省沈阳市浑南区水家900号
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
陕芳芳
优先权 ：
CN202111662037.7
主分类号 ：
H01L21/02
IPC分类号 ：
H01L21/02 H01L21/67 C23C16/56
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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