利用放电等离子直接陶瓷化处理高放废物的方法
实质审查的生效
摘要
本申请公开了一种利用放电等离子直接陶瓷化处理高放废物的方法，包括以下步骤：1)将高放废物研磨，干燥后得到干燥粉末；2)将得到的干燥粉末放入石墨模具加压，在SPS设备中直接进行烧结，烧结温度为1500～2000℃，在烧结温度下保温3min～15min，经冷却后得到高放废物陶瓷体。本申请相对于传统烧结方法能够大幅度缩短烧结时间，同时还能对烧结过程中的样品进行物理施压，具备快速、高效等特点，能够获得高性能的陶瓷体。
基本信息
专利标题 ：
利用放电等离子直接陶瓷化处理高放废物的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114373565A
申请号 ：
CN202111662652.8
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2021-12-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
董发勤卢喜瑞舒小艳何昔洋罗雰吴栋
申请人 ：
西南科技大学
申请人地址 ：
四川省绵阳市涪城区青龙大道中段59号西南科技大学核废物与环境安全国防重点学科实验室
代理机构 ：
北京祺和祺知识产权代理有限公司
代理人 ：
张应德
优先权 ：
CN202111662652.8
主分类号 ：
G21F9/30
IPC分类号 ：
G21F9/30 G21F9/34 C04B33/13 C04B33/132 C04B33/32 C04B35/50 C04B35/622 C04B35/64
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21F
G21FX射线，γ射线、微粒射线或粒子轰击的防护；处理放射性污染材料；及其去污染装置
G21F9/00
处理放射性污染材料；及其去污装置
G21F9/28
处理固体的
G21F9/30
处理过程
法律状态
2022-05-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G21F 9/30
申请日 : 20211231
申请日 : 20211231
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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